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orbray小型基材清洗機(jī)介紹

  • 發(fā)布日期:2023-08-21      瀏覽次數(shù):441
    • orbray小型基材清洗機(jī)介紹

      小型基材清洗機(jī)是專門對直徑小于2英寸的小型基材進(jìn)行清洗干燥的設(shè)備。
      這是第一臺能夠?qū)π∮?英寸的小型基材進(jìn)行高水平清洗和干燥的設(shè)備。
      迄今為止,要實(shí)現(xiàn)高度的清潔度還很困難,因?yàn)閷τ谛虏牧现瞥傻幕搴退榱鸦宓刃⌒突宓那逑捶椒ㄒ恢睙o法獲得直徑為2英寸或以上的晶體。僅限于浸洗等方法。因此,在新材料基板尺寸達(dá)到2英寸之前,不可能制造出能夠發(fā)揮材料原有性能的器件。
      為了清洗這樣的小型基板,小型基板清洗機(jī)除了在LED用藍(lán)寶石基板的制造過程中積累的清洗技術(shù)之外,還采用了新開發(fā)的小型基板專用的清洗和干燥機(jī)構(gòu)。因此,小型基板清洗機(jī)即使對于小型基板也能發(fā)揮出高清洗性能,有力地支持了新材料的開發(fā)和裝置化。

      特征

      適用于小基材的專用刷
      適用于小基材的專用刷

      新開發(fā)的刷子在去除沉積物方面表現(xiàn)出高性能,并且對小基材的損傷較小


      特殊旋轉(zhuǎn)干燥機(jī)構(gòu)
      適用于小基材的專用刷

      配備特殊的旋轉(zhuǎn)干燥機(jī)構(gòu),即使對于小型基材也能抑制灰塵產(chǎn)生并實(shí)現(xiàn)無水印干燥。

      可定制

      還可以改變目標(biāo)基板的尺寸并自動地從一個盒轉(zhuǎn)移到另一個盒。如果您有任何規(guī)格要求,請隨時與我們聯(lián)系。

      清潔目標(biāo)

      非常適合清洗晶體材料,如 GaN、AlN、金剛石、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃、生物芯片等。

      洗手間布局

      洗手間布局
      1. 基材轉(zhuǎn)移

      2. PCB固定

      3. 純凈水沖洗

      4. 刷子清洗(使用清洗液)

      5. 兆聲波清洗

      6. 旋轉(zhuǎn)干燥

      7. 基材轉(zhuǎn)移

      清潔結(jié)果示例

      <□5mm藍(lán)寶石基板>
      □5mm藍(lán)寶石基板洗滌條件
      <□5mm GaN襯底>
      AFM 附著觀察CL觀察假名檢查

      覆蓋基材原始表面的磨粒可以通過清洗去除。即使在容易損壞的GaN上也沒有形成潛在劃痕,并且確認(rèn)了清潔后沒有損壞。

      CL:
      電子束入射到樣品上時的陰極發(fā)光發(fā)射。通過對這種光進(jìn)行光譜分析,可以觀察晶體中的缺陷。

      設(shè)備規(guī)格

      除了以下代表性規(guī)格外,還可以進(jìn)行定制。我們還使用該設(shè)備提供合同清潔服務(wù)。請隨時與我們聯(lián)系。

      設(shè)備名稱小板清洗機(jī)
      清潔方法單晶圓
      工作尺寸□3mm、□4mm、□5mm、φ0.5"、φ1"、φ2"
      (可提供φ3"、φ4"、φ6",其他尺寸可根據(jù)要求訂制)
      洗滌時間(推薦洗滌條件)2分鐘/張(從裝料到卸料)
      設(shè)備配置基材轉(zhuǎn)移
      擦洗(可調(diào)節(jié)刷子高度)
      兆聲波清洗(頻率:950kHz)
      旋轉(zhuǎn)干燥(轉(zhuǎn)速:~3,000rpm)
      HEPA過濾器
      裝置尺寸(毫米)480 寬 x 600 深 x 1,680 高
      設(shè)備重量(公斤)200
      公用事業(yè)氣泵(外置):0.5MPa以上
      純水(推薦清洗條件):400ml/張
      電源:100VAC單相1,000W


    聯(lián)系方式
    • 電話

    • 傳真

    在線交流